IDS3010激光干涉位移传感探测头
- 半导体制造： 满足高精尖制程需求，包括多点面型检测、掩膜版与晶圆的相对位置精密控制，以及运动模组的实时位置反馈与闭环控制。
- 航空航天： 适用于关键部件的热弹性形变高精度测量，以及大型桁架结构的远距离形变与位移监测。
- 大科学装置与特殊环境： 完美适应同步辐射光源、超高真空腔体、强磁场等极端环境。广泛应用于光束线光学元件的精密监测，以及复杂机械部件间的相对位置实时追踪。
IDSH/D4/F17
Ø 4 mm, length 11.5 mm
D4/F17探头体积小巧，适用于空间受限的应用场景。用于更长的工作距离，在镜面上可达60毫米。兼容低反射目标，如玻璃或抛光钢。
HV: 支持超低温，高真空极端环境。工作温度范围为mK至423 K，真空兼容1 E-8 mbar。
UHV: 支持超低温，超高真空极端环境。工作温度范围为mK至423 K，真空兼容5×10⁻¹¹ mbar。
RAD: 支持强磁场极端环境应用
IDSH/D12/F2.8
Ø 12 mm, length 32.3 mm
D12/F2.8探头角度容差大、光斑尺寸小以及目标之间距离短。主要用于直接在表面上进行测量，例如捕捉表面结构（轮廓测量）。
HV: 支持超低温，高真空极端环境。工作温度范围为mK至423 K，真空兼容1 E-8 mbar。
UHV: 支持超低温，超高真空极端环境。工作温度范围为mK至423 K，真空兼容5×10⁻¹¹ mbar。
RAD: 支持强磁场极端环境应用
IDSH/M12/C1.6 /RT(with filter)
Ø 14 mm, length 17.4 mm
IDSH/M12/C1.6 /RT(with filter)
探头M12/C1.6是用于角反镜和平面镜长距离测量的理想选择。测量从20mm~1m，因此非常适合XY工作台位置控制或对反射镜空间有限的应用场景。
HV: 支持超低温，高真空极端环境。工作温度范围为mK至423 K，真空兼容1 E-8 mbar。
UHV: 支持超低温，超高真空极端环境。工作温度范围为mK至423 K，真空兼容5×10⁻¹¹ mbar。
RAD: 支持强磁场极端环境应用
探头M12/F40用于测量振动或材料变形。角度容差±0.35°。外壳设计具有高稳定性，传感器头能够适用于多种应用场景。
HV: 支持超低温，高真空极端环境。工作温度范围为mK至423 K，真空兼容1 E-8 mbar。
UHV: 支持超低温，超高真空极端环境。工作温度范围为mK至423 K，真空兼容5×10⁻¹¹ mbar。
RAD: 支持强磁场极端环境应用
IDSH/M12/C7.6
Ø 14 mm, length 49.2 mm
M12/C7.6探头是用于反射式靶标（角反镜）长距离测量的理想选择。测量距离达5米，因此常用于机床或坐标测量机的校准，以及评估线性导轨或定位器的位置精度。
HV: 支持超低温，高真空极端环境。工作温度范围为mK至423 K，真空兼容1 E-8 mbar。
UHV: 支持超低温，超高真空极端环境。工作温度范围为mK至423 K，真空兼容5×10⁻¹¹ mbar。
RAD: 支持强磁场极端环境应用
IDSH/M15.5/C1.6 /FLEX/RT(with filter)
Ø 22 mm, length 20.6 mm
IDSH/M15.5/C1.6 /FLEX/RT(with filter)
M15.5/C1.6/FLEX与M12/C1.6光学系统相同，也可用于对微型角反镜 retroreflectors 和平面镜进行长距离测量。还配备柔性结构，倾斜可调范围为1°。
HV: 支持超低温，高真空极端环境。工作温度范围为mK至423 K，真空兼容1 E-8 mbar。
UHV: 支持超低温，超高真空极端环境。工作温度范围为mK至423 K，真空兼容5×10⁻¹¹ mbar。
RAD: 支持强磁场极端环境应用
IDSH/M15.5/F40 /FLEX
Ø 22 mm, length 22.7 mm
M15.5/F40/FLEX与M12/F40光学系统相同，可用于测量各种表面上的振动或材料变形。还配备柔性结构，倾斜可调范围为1°。
HV: 支持超低温，高真空极端环境。工作温度范围为mK至423 K，真空兼容1 E-8 mbar。
UHV: 支持超低温，超高真空极端环境。工作温度范围为mK至423 K，真空兼容5×10⁻¹¹ mbar。
RAD: 支持强磁场极端环境应用
Customized Sensorics Solutions
定制传感器探头